大学院理工学研究科 GRADUATE SCHOOL OF SCIENCE & ENGINEERING −知と技の協奏曲−
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理工学研究科学術講演会No.5開催のお知らせ

2010/11/26

講演題目: 極限的反応場におけるレーザー光プロセスとその利用
講演者:   佐藤 正健 教授
           (産総研 光技術研究部門)
日時:     12月3日(金) 15時00分―16時15分
会場:     理学部 第一会議室
対象者:   教員、大学院生、学部生
講演概要:
極限的反応場におけるレーザー光プロセスとして、現在取り組んでいる2つのトピックス、10Kの希ガス固体を反応場として利用する低温マトリックス反応場レーザー光分解反応による反応中間体生成、および、高濃度有機色素溶液における高密度レーザー光誘起プロセス(レーザーアブレーション)を利用したガラスの微細加工技術開発について紹介する。 

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